光学分析
实验室和生产过程通用的综合光学分析系统，适合固体、液体、泥浆和气体测量
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Measured variables
Gas components, calorific value, density, Wobbe index, molar mass, compressibility
Measuring medium
Natural gas, biogas, air, H2, O2, N2
Analysis time
≥45 seconds
GM32
即使在防爆区域内也可直接快速检测腐蚀性气体
分析物和测量范围
H2S（硫化氢）：
0...10 ppmv
0...500 ppmv
其他量程（按需提供）
防爆认证
ATEX/IECEx/UKEx Zone 1
PESO / KTL / JPNEx Zone 1
INMETRO Zone 1
CNEx Zone 1
CSA Cl. I, Div. 1
CSA Cl. I, Zone 1
激光波长
基础型：785 nm
标准型：532 nm、785 nm、1000 nm
混合型：785 nm
光谱范围
基础型：785 nm：300...3300 cm-1
标准型：532 nm：100...4350* cm-1
标准型：785 nm：100...3425* cm-1
标准型：1000 nm：200...2400 cm-1
混合型：785 nm：150...1890** cm-1
*波长小于150 cm-1时，信噪比较低
**波长小于175 cm-1时，信噪比较低
Hosting
Off-premise: https://monitoringbox.endress.com
Industrial PC, other solutions on request
Measured variables
CH4, CO, CO2, Corg, HCl, H2O, NH3, NO, NO2, N2O, O2, SO2
Ambient temperature range
+5 °C ... +50 °C
Process temperature
≤ +550 °C
Endress+Hauser通过为实验室、过程及排放监测提供全面的原子与分子分析工具组合，为客户的长远发展做出了重大投资。我们的光学分析系统帮助客户优化关键工业流程，并更可靠地实时监测产品质量与排放。核心技术涵盖可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS）、荧光淬灭（QF）、拉曼光谱、近红外光谱、红外光谱、紫外/可见光谱以及原子吸收光谱等主流原位与抽取式分析技术。
- 过程透明： 光学分析数据可清晰呈现工艺流程全貌，为优化决策提供可靠依据。
- 实时测量：秒级或分钟级的测量速度，助力用户有效减少停机时间，有效控制运营成本。
- 高质量和高可靠性：光学分析系统帮助客户优化关键工业流程，实现对产品质量的可靠监控。
- 非侵入、免手持测量 在线光学分析技术无需样品制备或人工操作，即可实现安全、高效、无损的测量。
- 高工厂可用性： 通过安装易于操作和维护的光学系统，保障生产设施持续稳定运行。
- 确保合规：为精准控制排放，需对气体浓度进行可靠分析与持续监测。
Quality & Compliance
提高工厂安全性，确保产品质量，优化生产运营。采用拉曼光谱技术实时测定样气组份和分子结构，广泛适用于从实验室至生产的各类过程应用。
产品
可靠的H2S测量有助于石油与天然气行业提升气体质量，改进过程控制，提高资产完整性。
相关主题
优化提高工厂的安全性和可用性。可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS）技术能够快速、可靠、实时测量过程气体中的杂质浓度。
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